
虽然二者都属于二极管家族,但其物理结构、载流子机制及应用目标截然不同。深入了解它们的本质区别,有助于在复杂系统设计中避免误用和性能损失。
肖特基二极管:采用金属(如铝、铂)与N型半导体直接接触形成肖特基结,无传统PN结结构。这种结构导致其具有低势垒高度,从而降低导通压降。
齐纳二极管:本质上是经过特殊掺杂处理的PN结二极管,其反向击穿电压可通过调整掺杂浓度精确控制。在反向电压超过阈值时,发生齐纳击穿(低电压)或雪崩击穿(高电压)。
伏安特性曲线对比:
肖特基二极管:由于金属-半导体界面易受热影响,其反向漏电流随温度上升急剧增长,限制了在高温环境下的长期使用。
齐纳二极管:温度系数可通过设计优化(如使用多层掺杂结构),部分型号具备负温度系数补偿能力,适用于精密稳压场合。
许多初学者容易将两者混为一谈,例如:
随着功率电子器件的发展,新型肖特基二极管(如碳化硅肖特基二极管)已实现更高耐压、更低漏电和更好高温性能;同时,集成化齐纳参考源(如TL431)也逐步取代独立齐纳二极管,提升系统稳定性。
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